MPCVD Surowy CVD Mechaniczny Laboratorium Diamentowe Stworzone VVS Diamentowa Płytka 12x12x0.3mm

CVD z pojedynczym kryształowym diamentem (chemiczne osadzanie pary) jest wytwarzane przy użyciu procesu CVD, w którym gazy zawierające węgiel rozkładają się w kontrolowanych warunkach, tworząc pojedynczą kryształową warstwę diamentów na podłożu.

• Wyjątkowa twardość i przewodność cieplna
• Wysoce uporządkowana struktura krystaliczna dla poprawy właściwości fizycznych
• Idealny do tnącej narzędzia, rozkładów ciepła i komponentów optycznych
• Najwyższa wydajność w aplikacjach produkcyjnych, elektronicznych i optycznych

Wytwarzane przy użyciu chemicznego osadzania pary wspomaganego w osoczu mikrofalowym (MPACVD), w którym rezonans mikrofalowy rozkłada gaz zawierający węgiel w celu wytworzenia plazmy, umożliwiając wzrost homoepitaxialny w kierunku 100, 110 i 111 kierunków kryształów nasion diamentowych typu IIB.

3x3x0,3 mm do 15x15x0,3 mm w różnych przyrostach

• Precyzyjna pozytywna tolerancja we wszystkich wymiarach
• Brak czarnych plam lub pęknięć polikrystalicznych przy powiększeniu 20x
• Idealne cięcie laserowe bez brakujących narożników
• Jednolity rozkład naprężeń pod polaryzatorem
• Orientacja 4PT/100 z twarzami {100}
• Polerowane powierzchnie z RA <20 nm
• Bardzo niskie zanieczyszczenia: bor <0,05 ppm, azot <20 ppm