Name: 11x11 Laboratory Grown Diamond Seeds Raw CVD Diamond Wafers Plate Colorless Industrial
Brand: Shaper Diamond Technology Co., Ltd
SKU: JSD
Price: 1,000.00 USD
Availability: InStock

Dom Produkty Diament CVD mechaniczny

11x11 Laboratory Grown Diamond Seeds Raw CVD Diamond Wafers Plate Colorless Industrial

11x11 Lab Grown Diamond Seeds Rough CVD Diamond Wafers Plate Colorless Industrial

Szczegóły Produktu:

Miejsce pochodzenia:	Hunan, Chiny
Nazwa handlowa:	Infi
Numer modelu:	JSD

Zapłata:

Minimalne zamówienie:	10 PCS
Cena:	To be negotiated
Szczegóły pakowania:	zapakowane w pudełko, a następnie w karton
Czas dostawy:	7 dni roboczych
Zasady płatności:	T/T, Western Union, Paypal
Możliwość Supply:	100 sztuk/7 dni

Kontakt

Szczegółowy opis produktu

Wielkość:	11x11x0,3 mm	Kolor:	Bezbarwny
Nazwa produktu:	Cvd Diamentowa tablica	Twardota (mikrotwardota):	80 ∼ 150 GPa
Moduł Younga:	1150-130OGPa	Współczynnik rozszerzalności cieplnej:	10-.K-l
Współczynnik tarcia:	0.05 ~ 0.05	Przewodność cieplna:	1500-2000 w/ (m·K)
Podkreślić:	11x11 Nasiona diamentów uprawiane w laboratorium , Bezbarwne surowe płytki diamentowe CVD , Przemysłowa płytka diamentowa Cvd

11×11 Nasiona diamentu hodowanego w laboratorium, surowe płytki diamentowe CVD, bezbarwne, przemysłowe

Specyfikacje produktu

Atrybut	Wartość
Rozmiar	11×11×0,3 mm
Kolor	Bezbarwny
Nazwa produktu	Płytka diamentowa CVD
Twardość (mikrotwardość)	80～150GPa
Moduł Younga	1150～1300GPa
Współczynnik rozszerzalności cieplnej	10^-6K^-1
Współczynnik tarcia	0,05～0,05
Przewodność cieplna	1500-2000 W/(m·K)

Przegląd produktu

Nasze surowe płytki diamentowe CVD 11×11×0,3 mm hodowane w laboratorium są produkowane przy użyciu technologii Chemical Vapor Deposition (CVD). Proces ten rozkłada gazy zawierające węgiel w kontrolowanych warunkach, tworząc wysokiej jakości warstwy diamentu monokrystalicznego na podłożach.

Kluczowe cechy

Diamenty monokrystaliczne CVD oferują wyjątkową stabilność termiczną porównywalną z diamentami naturalnymi, z właściwościami izotropowymi dzięki ich nieuporządkowanemu układowi ziaren. Płytki te nie zawierają katalizatorów metalicznych, co zapewnia doskonałą wydajność w wymagających zastosowaniach.

Specyfikacje techniczne

Zawartość azotu: <50ppm
Stężenie boru [B]: <0,05 ppm
Stężenie azotu: <20 ppm
Dwie strony polerowane, Ra <20 nm
Wymiary boczne mierzone do krótszego boku
Tolerancja L + W (0, +0,3 mm)
Tolerancja grubości (0, +0,1 mm)

Dostępne rozmiary

3×3×0,3 mm

4×4×0,3 mm

5×5×0,3 mm

6×6×0,3 mm

7×7×0,3 mm

8×8×0,3 mm

9×9×0,6 mm

10×10×0,3 mm

11×11×0,3 mm

12×12×0,3 mm

13×13×0,3 mm

15×15×0,3 mm

Zapewnienie jakości

Precyzyjnie cięte laserowo krawędzie z <100> orientacja
Orientacja powierzchni {100}
Brak polikrystalicznych czarnych plam lub pęknięć pod powiększeniem 20×
Idealne cięcie bez brakujących narożników
Jednolity rozkład naprężeń pod polaryzatorem

Sugerowane zastosowania

Idealne do stosowania jako podłoża/nasiona do wzrostu monokrystalicznego CVD, narzędzi do cięcia i szlifowania, rozpraszaczy ciepła i komponentów optycznych, gdzie wymagana jest wyjątkowa twardość i przewodność cieplna.

Zdjęcia produktu